エピエル

エピエルは、集積回路、ディスクリート・パワー・デバイス、その他多くの電子部品を含む幅広い半導体デバイス用のシリコンとサファイアをベースとしたエピタキシャル構造の生産を専門とするロシアで唯一の会社です。

現代のエピタキシャル構造は、高度なエンジニアリングと高度な技術の産物です。シリコンエピタキシャル構造体は、高純度単結晶シリコンの薄い丸いウェハの表面に単結晶シリコンの極薄エピタキシャル層を蒸着したものです。

エピエルは20年以上にわたり、エピタキシャル構造の分野で国内外のエレクトロニクス産業のニーズに応えてきました。高い科学的可能性と幅広い生産能力の組み合わせにより、Epielはロシアのみならず世界でもこの分野では唯一無二の企業となっています。

創造の歴史

エピエル社は、1998年に材料科学研究所、精密機械製造研究所の専門家により、マイクロン工場のエピタキシャル部門をベースに、国内マイクロエレクトロニクス用シリコンエピタキシャル構造物の生産に特化した独立企業として、ゼレノグラードに設立されました。

製品情報

エピエル社は今日、直径100、150、200mmの世界クラスのシリコンエピタキシャル構造体を生産しており、国内最大のマイクロエレクトロニクス工場であるマイクロン社とアングストローム社、そして海外に供給しています。例えば、マイクロン工場で生産された集積回路は、モスクワの交通網の非接触無線周波数識別チケットに使用されています。

このような構造の特殊性は、シリコンのエピタキシャル層が絶縁体であるサファイア基板上に塗布されていることである。サファイア上のシリコン構造は、民生用、軍事用、宇宙用の両方の電子部品の製造に使用されている。特に、宇宙機器、原子力発電所の電子システムに使用される耐放射線性集積回路の製造に使用されるほか、通信装置、オプトエレクトロニクス、特殊用途の電子機器にも使用されている。

革新的な開発

エピタキシャル構造物の品質向上

エピエルは、国内消費者の将来の開発計画に向けて、生産品質の向上を目指した絶え間ない技術革新と、その生産の高度化と新しいタイプのエピタキシャル構造体の開発を、開発の主要な戦略的方向と考えています。

ワンランク上の設備を備えた新たな生産エリアの創出

この5年間、同社は、より高度な設備を備えた新たな生産エリアを作るプロジェクトを実施することで、新たな飛躍を遂げました。このプロジェクトの実施には、設備、クリーンルーム、インフラストラクチャーへの多額の投資が必要でした。このユニークなプロジェクトは、ロシアのエレクトロニクス産業のさらなる発展のための強固な基盤を築くものであり、ロシアのエレクトロニクス産業にとって特別な重要性を持っています。

エピタキシャル構造を得るための新しい方法の開発

大きなプロジェクトの一環として、2019年、エピエルは窒化ガリウムをベースとしたエピタキシャル構造を得るための技術の習得を開始しました。

経験豊富なスペシャリスト

エピエル社が誇るのは、エピタキシー分野の経験豊富な専門家チームであり、その努力により、今日のシリコンエピタキシャル構造物の製造に柔軟な技術を開発してきました。

連邦目標プログラムへの参加

同社は、連邦目標プログラム-電子部品ベースとラジオエレクトロニクスの開発-の実施に積極的に参加しています。この作業の一環として、ロシア市場向けの新しい高度なタイプのエピタキシャル構造物の生産技術開発を目的とした多くの研究開発プロジェクトが数年にわたって成功裏に実施されてきました。2015年には、マイクロン向けの直径200mmエピタキシャル構造物の主要サプライヤーとしてエピエル社の認証プロセスが完了し、これらの製品の輸入代替という課題が解決されました。